Izsmidzinošs mērķis Titanium 99.7 Piedāvātais attēls

Izsmidzinošs mērķis Titāns 99.7

Pure Titanium target tiek plaši izmantots vairāku loku jonu vai magnetronu izsmidzināšanas PVD vakuuma pārklājumu rūpniecībā dekoratīvam PVD pārklājumam vai funkcionālam pārklājumam.Mēs varam nodrošināt jums dažādu tīrību atbilstoši jūsu dažādajām prasībām.

Forma: plakans/plāksne/cilindrisks mērķis.

Mēs varam nodrošināt arī: TiAl, Cr, Ti, Zr, Al, Ni, Cu, Mo un citus mērķus.

──iprsūtis, arī ────

Materiāls: tīrs titāns, titāna sakausējums

MOQ: 5 gab

Forma: apaļš mērķis, ēveles mērķis

Krājuma izmērs: Φ98 * 45 mm, Φ100 * 40 mm

Pielietojums: Pārklājums PVD iekārtai

PASŪTĪT CĒNĀJUMU

Produkta informācija

Produktu etiķetes

Produkta apraksts

Kā darbojas Magnetron Sputtering?

Magnetronu izsmidzināšana ir fiziska tvaiku pārklāšanas (PVD) metode, vakuuma pārklāšanas procesu klase plānu kārtiņu un pārklājumu ražošanai.
Nosaukums "magnetronu izsmidzināšana" rodas no magnētisko lauku izmantošanas, lai kontrolētu uzlādēto jonu daļiņu uzvedību magnetrona izsmidzināšanas procesā.Procesam ir nepieciešama augsta vakuuma kamera, lai radītu zema spiediena vidi izsmidzināšanai.Gāze, kas satur plazmu, parasti argona gāze, vispirms nonāk kamerā.
Starp katodu un anodu tiek pielikts augsts negatīvs spriegums, lai uzsāktu inertās gāzes jonizāciju.Pozitīvie argona joni no plazmas saduras ar negatīvi lādētu mērķa materiālu.Katra lielas enerģijas daļiņu sadursme var izraisīt atomu izmešanu no mērķa virsmas vakuuma vidē un virzīties uz substrāta virsmu.

Spēcīgs magnētiskais lauks rada augstu plazmas blīvumu, ierobežojot elektronus mērķa virsmas tuvumā, palielinot nogulsnēšanās ātrumu un novēršot substrāta bojājumus no jonu bombardēšanas.Lielākā daļa materiālu var darboties kā izsmidzināšanas procesa mērķis, jo magnetrona izsmidzināšanas sistēmai nav nepieciešama izejmateriāla kausēšana vai iztvaicēšana.

Produkta parametri

Produktu nosaukums	Tīra titāna mērķis
Novērtējums	Gr1
Tīrība	Vairāk 99,7%
Blīvums	4,5g/cm3
MOQ	5 gab
Karstā izpārdošanas izmērs	Φ95 * 40 mm Φ98 * 45 mm Φ10040mm Φ128 45 mm
Pieteikums	Pārklājums PVD iekārtai
Krājuma lielums	Φ98 * 45 mm Φ100*40mm
Citi pieejamie mērķi	Molibdēns (Mo) Chrome (Cr) TiAl Varš (Cu) Cirkonijs (Zr)

Pieteikums

■Integrālo shēmu pārklāšana.
■Plakano paneļu un citu komponentu virsmas paneļu displeji.
■Apdares un stikla pārklājums utt.

Kādus produktus varam ražot

■Augstas tīrības pakāpes titāna plakanais mērķis (99,9%, 99,95%, 99,99%)
■Standarta vītņots savienojums vienkāršai uzstādīšanai (M90, M80)
■Neatkarīga ražošana, pieņemama cena (kvalitāte kontrolējama)

Pasūtījuma informācija

Pieprasījumos un pasūtījumos jāiekļauj šāda informācija:

■ Diametrs, augstums (piemēram, Φ100 * 40 mm).
■ Vītnes izmērs (piemēram, M90 * 2 mm).
■ Daudzums.
■ Tīrības pieprasījums.